純水加温装置
超純水加温装置 HDW-III
温度・流体の制御 / 純水加温装置
- 製品概要
- カーボンヒーターを使用した効率的な超純水の加温が行える装置です。長寿命ヒーターを採用しています。
- 用途
- Siウエハ、化合物半導体の洗浄、液晶ガラス基板の洗浄、マスクの洗浄、ハードディスク基板の洗浄
仕様
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型式
HDW-III
4機種（-12N, -18N, -24N, -36N） -
標準流量※
12L/min～38L/min
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最高設定温度
85℃
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電源
(ヒーター用)※3相 AC200V 150A～225A
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電源(制御用)
単相 AC200V 5A
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加温機数※
2～6
※機種により異なります。