薬液供給装置
  • 簡易スラリー供給装置
  • インライン薬液供給装置
  • 連続式スラリー供給装置
  • オゾン分解装置
  • キャニスタユニット
  • 添加剤滴下装置



  • 簡易スラリー供給装置

     型式 P65
     タンク容量 125L アイボリー塩ビ製
     ダイアフラムポンプ 10LPM
     供給エア 85LPM
     電源容量 AC100V 5A
     製品概要
     スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です
     用途
     ウエハ研磨用






    連続式スラリー供給装置

     型式 P85
     スラリー コロイドシリカベースPH11
     希釈倍率 10,15,20倍
     PH制御 PH10〜11±0.2
     温度制御 20〜40±0.5℃
     供給流量 1.5LPM 、0.3MPa
     スラリータンク 20L 内蔵
     アンモニアタンク 5L 内蔵
     外形寸法 W1250*D580*H1400
     重量 500Kg
     
     製品概要
     原液を希釈し温度制御されたスラリー液を連続して研磨装置へ供給する為のもので当社独自の移送、
     希釈、温度制御方式により省ススペース、省エネルギー、ロウコストを実現しました。
     用途
     バックグラインダー、CMP、ポリッシュグラインダー、研削装置






    連続式スラリー供給装置

     型式 P88
     流体 スラリー液(コロイドシリカ)
     流量 200CC毎分
     希釈倍率 10,15,20倍
     タンク洗浄 タンク切替時にDIWによる洗浄を行う
     電源容量 AC200V 3相 15A
     筐体 SUS304研磨
     製品概要
     ポリタンクにより供給された源液をロードセルにより計量希釈し装置へ連続供給するためのもの
     用途
     バックグラインダー装置






    キャニスタユニット

     型式 P82
     フィルター カプセルフィルター 0.1 ミクロン ポリスルホン製
     薬液 酸系 H2O2, HF アルカリ系 NH4OH
     バルブ エアオペレートバルブ PTFE
     排気 ダンパー、マノメータ内蔵
     製品概要
     酸系2薬液アルカリ系1薬液の原液コンテナを収納しN2による加圧圧送により原液を供給するためのものである
     用途
     CMP装置の原液供給






    インライン薬液供給装置

     型式 M54
     薬液 500CC/分max
     DIW 5000CC/分max
     制御方式 比例電磁弁PID制御
     流量計測 超音波流量計
     希釈倍率 10〜100倍
     流量範囲 1〜5LPM
     製品概要
     3系統の薬液を計量タンクを用いずインラインにて薬液を純水で希釈する装置です。希釈倍率、混合流量はタッチパネルから設定できます。設定された倍率、流量により自動的に薬液と純水流量を内蔵する流量コントロールバルブに指示され制御されます。立ち上がりおよび定常時の最適制御が行われます
     用途
     CMP装置後洗浄






    オゾン分解装置

     型式 G36
     流量 200LPM
     溶存オゾン濃度 30mg/L
     分解率 90%以上
     最大使用圧力 0.2MPa
     消費電力 5KVA
     分解塔 10塔
     紫外線ランプ 低圧紫外線30本
     製品概要
     流体中の溶液オゾンを瞬時に分解する為のもので、紫外線によりオゾンを瞬時に分解し排水する
     用途
     高濃度オゾン廃液処理






    添加剤滴下装置

     型式 P10A
     DIW 1〜5LPM
     添加剤調整範囲 2.4〜12mLPM
     製品概要
     本装置は添加剤を切削水に混合する為の装置です
     用途
     ダイシング装置