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純水加温装置

超純水加温装置 HDW-III

超純水加温装置 HDW-III
温度・流体の制御 / 純水加温装置

    製品概要
    カーボンヒーターを使用した効率的な超純水の加温が行える装置です。長寿命ヒーターを採用しています。
    用途
     Siウエハ、化合物半導体の洗浄、液晶ガラス基板の洗浄、マスクの洗浄、ハードディスク基板の洗浄

仕様

  • 型式

    HDW-III
    4機種(-12N, -18N, -24N, -36N)

  • 標準流量※

    12L/min~38L/min

  • 最高設定温度

    85℃

  • 電源
    (ヒーター用)※

    3相 AC200V 150A~225A

  • 電源(制御用)

    単相 AC200V 5A

  • 加温機数※

    2~6

※機種により異なります。