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薬液供給装置

薬液供給装置 P112

連続式 P112
温度・流体の制御 / 薬液供給装置

    製品概要
    CMP装置に予め決められた濃度の薬液を供給するためのもので2種2系統を供給する機能を有する装置です。
    用途
    半導体製造装置

仕様

  • 型式

    P112

  • 希釈液

    NH40H、H2O2、HF、DIW

  • 希釈液流量

    2.2L/min max 2系統

  • 希釈時間

    1分/2.2L

  • 供給圧力

    0.2MPa max

  • 電源

    単相100V~240V±10%、15A

キャニスタユニット P82

キャニスタユニット P82
温度・流体の制御 / 薬液供給装置

    製品概要
    酸系2薬液アルカリ系1薬液の原液コンテナを収納しN2による加圧圧送により原液を供給するための装置です。
    用途
    CMP装置の原液供給

仕様

  • フィルター

    カプセルフィルター 0.1 ミクロン ポリスルホン製

  • 薬液

    酸系 H2O2, HF アルカリ系 NH4OH

  • バルブ

    エアオペレートバルブ PTFE

  • 排気

    ダンパー、マノメータ内蔵

カタログPDF資料
(外部サイト IPROS)
添加剤滴下装置 P101

添加剤滴下装置 P101
温度・流体の制御 / 薬液供給装置

    製品概要
    本装置は添加剤を切削水に混合する為の装置です
    用途
    ダイシング装置

仕様

  • 型式

    P10A

  • DIW

    1~5L/min

  • 添加剤調整範囲

    2.4~12mL/min